上一期內(nèi)容中我們講到了鍍鉻的分類(lèi)，相信大家也有了一定的了解了，那么今天小編繼續(xù)為大家講解一下。
　　1、四鉻酸鹽鍍鉻液這類(lèi)鍍液的鉻酐濃度較高，鍍液中除含有鉻酐和硫酸外，還含有氫氧化鈉和氟化鈉。添加糖或醇作為還原劑，以穩(wěn)定鍍液中的Crs+;添加檸檬酸鈉以掩蔽鐵離子。這類(lèi)鍍液的主要優(yōu)點(diǎn)是電流效率高(35%以上)，沉積速度快、
　　鍍液的分散能力好，但鍍液只在室溫下穩(wěn)定，操作溫度不宜超過(guò)24℃，采用高電流密度時(shí)需冷卻鍍液;鍍層的光亮性差，硬度較低，鍍后需經(jīng)拋光才能滿足裝飾鉻的要求。
　　2、常溫鍍鉻鍍液由鉻酐和氟化物(NH4F或NaF)組成，也可加入少量的硫酸。這種鍍液的工作溫度(15～25℃)和電流密度(8～12A/dm2)低，沉積速度慢，適用于薄層電鍍。其電流效率和分散能力較高，可用于掛鍍和滾鍍。
　　3、低濃度鉻酸鍍鉻鍍液中鉻酐濃度較標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻液低5倍，可大大降低對(duì)環(huán)境的污染。電流效率及鍍層的硬度介于標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻液和復(fù)合鍍鉻液之間，其覆蓋能力和耐蝕性與高濃度鍍鉻相當(dāng)。但鍍液的電阻大，槽電壓高，對(duì)整流設(shè)備要求嚴(yán)格，同時(shí)鍍液的覆蓋能力有待提高。
　　4三價(jià)鉻鍍鉻鍍液中以Cr3+化合物為主鹽，添加絡(luò)合劑、導(dǎo)電鹽及添加劑。該工藝消除或降低了環(huán)境污染，鍍液的分散能力和覆蓋能力較鉻酸鍍液高，陰極電流效率有所改善;可常溫施鍍;槽壓低;電鍍不受電流中斷的影響。但鍍液對(duì)雜質(zhì)敏感，鍍層的光澤較暗，鍍層厚度為幾微米，并不能隨意增厚;鍍層的硬度低，鍍液成分復(fù)雜不利于維護(hù)。
　　本期內(nèi)容我們就講到這里了，稀土鍍鉻液在傳統(tǒng)鍍鉻液的基礎(chǔ)上加入一定量的稀土元素及氟離子。采用稀土元素可降低鉻酐的濃度、拓寬施鍍溫度范圍(10～50℃)及陰極電流密度范圍(5～30A/dm2)，降低槽壓，改善鍍層的光亮度及硬度。使鍍鉻生產(chǎn)實(shí)現(xiàn)低溫度、低能耗、低污染，即所謂的“三低一高”鍍鉻工藝。但對(duì)于鍍液的穩(wěn)定性和可靠性，目前尚有不同的看法，尤其是對(duì)其機(jī)理的研究還有待深入。